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SAM-S 和 SAM-C

SAM-S 和 SAM-C 提供快速多点 AMC 监测，实现半导体晶圆厂空气分子污染的准确连续检测。

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二氧化硫（SO₂）气体浓度分析仪

以 ppt 级灵敏度实时监测 SO₂，快速响应污染事件，为半导体晶圆厂提供可靠的 AMC 检测。

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氨气（NH₃）气体浓度分析仪

以 ppt 级灵敏度实时监测 NH₃，响应快速且无需现场校准，适用于半导体晶圆厂 AMC 监测。

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氟化氢（HF）和氨气（NH₃）气体浓度分析仪

以 ppt 级灵敏度监测 HF 和 NH₃，响应快速且无需现场校准，适用于半导体晶圆厂 AMC 监测。

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硫化氢（H₂S）气体浓度分析仪

高灵敏度实时监测 H₂S，响应快速且无需现场校准，适用于半导体晶圆厂 AMC 监测。

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氯化氢（HCl）气体浓度分析仪

以 ppt 级灵敏度实时监测 HCl，快速连续分析且无需现场校准，适用于半导体晶圆厂 AMC 监测。

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氟化氢（HF）气体浓度分析仪

以 ppt 级灵敏度实时监测 HF，响应快速且无需现场校准，适用于半导体晶圆厂 AMC 监测。

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NH₃、HCl、HF 气体浓度分析仪

以 ppt 级灵敏度实时监测 NH₃、HCl 和 HF，快速响应污染事件，助力保护半导体生产良率。

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SAM-C

采用高流量多点采样并支持多达 4 台分析仪，持续监测 AMC，实现精准的半导体污染检测。

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SAM-S

支持多达 16 个采样端口和 2 台分析仪，快速多点监测 AMC，实现精准的半导体污染检测。

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SLiM 100

以 1 ppb 灵敏度实时监测光刻工艺中的 VOC，保护半导体设备和工艺，助力提升生产良率。

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参数表

G2204 甲烷 ( CH4 ) / 硫化氢 ( H2S ) 高精度气体浓度分析仪

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参数表

G2131-i 高精度二氧化碳 ( CO2 ) 碳同位素及甲烷 ( CH4 ) 气体浓度分析仪

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参数表

A0101 标样传输模块

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参数表

A0214 微燃烧模块™ (MCM): 消除有机干扰

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