Resources Library | Picarro

参数表

AMC 便携式泄漏检测系统数据表

便携式 AMC 泄漏监测系统可监测多达 16 个采样点位，快速识别半导体晶圆厂中的污染事件。

下载PDF

参数表

SI2205 分析仪数据表

采用快速实时的 CRDS 技术，以 ppt 级灵敏度监测半导体晶圆厂中的氟化氢。

下载PDF

参数表

SI2103 分析仪数据表

以 ppt 级灵敏度实时监测半导体晶圆厂中的氨气，响应快速且无需校准。

下载PDF

参数表

SI2306 分析仪数据表

以高灵敏度测量 HF 和 NH₃，为半导体制造提供可靠的 AMC 监测。

下载PDF

参数表

SI5450 分析仪数据表

以 ppt 级灵敏度实时检测二氧化硫，为半导体洁净室和晶圆厂提供可靠的 AMC 监测。

下载PDF

参数表

SLiM 100 数据表

通过 ppb 级 VOC 检测实时监测光刻设备，提高半导体生产良率。

下载PDF

参数表

AMC 工艺监测系统数据表

连续监测多达 32 个采样点位，快速识别 AMC 污染事件，优化半导体晶圆厂监测覆盖范围。

下载PDF

参数表

SAM-C 数据表

通过快速、高精度采样，持续监测空气分子污染，保障半导体晶圆厂的生产环境。

下载PDF

参数表

SI2000 系列分析仪数据表

高灵敏度实时监测无机 AMC，快速响应污染事件，助力保护半导体工艺并提升生产良率。

下载PDF

参数表

SAM-S 数据表

通过快速、准确的多点采样，持续监测空气分子污染，保障半导体晶圆厂的生产环境。

下载PDF

参数表

SI3401 分析仪数据表

以 ppt 级灵敏度实时监测 NH₃、HF 和 HCl，防止空气污染物影响半导体良率。

下载PDF

参数表

厂界监测系统 (FMS)

采用高灵敏度 CRDS 技术进行连续厂界监测，助力工业空气污染合规管理。

下载PDF

参数表

PI2124 过氧化氢 (H2O2) 气体浓度分析仪

以低至 3 ppb 的检测限连续监测 H₂O₂，在灭菌和生产过程中保护敏感药品免受氧化。

下载PDF

参数表

CM-CRDS 燃烧模块高精度碳同位素分析仪

下载PDF

参数表

A0314 Small Sample Introduction Module 2 (SSIM2) Datasheet

下载PDF