Resources Library | Picarro

参数表

AMC 便携式泄漏检测系统数据表

便携式 AMC 泄漏监测系统可监测多达 16 个采样点位，快速识别半导体晶圆厂中的污染事件。

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SI2205 分析仪数据表

采用快速实时的 CRDS 技术，以 ppt 级灵敏度监测半导体晶圆厂中的氟化氢。

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SI2103 分析仪数据表

以 ppt 级灵敏度实时监测半导体晶圆厂中的氨气，响应快速且无需校准。

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参数表

SI2306 分析仪数据表

以高灵敏度测量 HF 和 NH₃，为半导体制造提供可靠的 AMC 监测。

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参数表

SI5450 分析仪数据表

以 ppt 级灵敏度实时检测二氧化硫，为半导体洁净室和晶圆厂提供可靠的 AMC 监测。

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参数表

SLiM 100 数据表

通过 ppb 级 VOC 检测实时监测光刻设备，提高半导体生产良率。

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AMC 工艺监测系统数据表

连续监测多达 32 个采样点位，快速识别 AMC 污染事件，优化半导体晶圆厂监测覆盖范围。

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SAM-C 数据表

通过快速、高精度采样，持续监测空气分子污染，保障半导体晶圆厂的生产环境。

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参数表

SI2000 系列分析仪数据表

高灵敏度实时监测无机 AMC，快速响应污染事件，助力保护半导体工艺并提升生产良率。

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SAM-S 数据表

通过快速、准确的多点采样，持续监测空气分子污染，保障半导体晶圆厂的生产环境。

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参数表

SI3401 分析仪数据表

以 ppt 级灵敏度实时监测 NH₃、HF 和 HCl，防止空气污染物影响半导体良率。

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手册

SI2000 系列分析仪宣传册

采用 CRDS 技术实时监测无机 AMC，为洁净室、FOUP 和晶圆制造设备提供高灵敏度污染检测。

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博客

Picarro 聚焦：大海捞针寻找甲烷——破解加州甲烷排放源归因难题

LBNL 利用 Picarro G2210-i 的甲烷同位素和乙烷测量，精准识别加州甲烷排放源。

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博客

Picarro 聚焦：利用高精度水同位素测量追踪地震前兆

了解地震发生前地下水分布模式的变化，有望成为预测重大地震事件的重要依据。

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厂界监测系统 (FMS)

采用高灵敏度 CRDS 技术进行连续厂界监测，助力工业空气污染合规管理。

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