跳转到主要内容

光刻工艺中的挥发性有机化合物(VOCs)和无机化合物会导致光罩缺陷、扫描仪光学元件雾化以及其他严重问题,不仅会损坏昂贵的光刻设备,还可能造成良率损失。

Picarro SLiM 100 光刻监测系统是一款具有 1 ppb 级检测能力的监测系统,将 Picarro 行业领先的腔衰荡光谱(CRDS)分析仪集成到高性能采样系统中,专为监测晶圆厂内的 VOCs 而设计。

SLiM 100 是一套实时测量系统,可在晶圆厂环境中全天候 24/7 连续运行。作为一套完全集成的化学计量系统,其性能稳定、操作简便,非常适合作为大批量生产环境中的工艺监测与控制系统。

Picarro SLiM 100 可测量 10 种对光刻工艺产生不利影响的有机化合物,浓度检测灵敏度低至 十亿分之一(1 ppb)。该系统还可配置用于测量无机分子的分析仪,实现 万亿分之一(ppt)级的浓度检测。

检测气体VOC:乙酸、丙酮、D3 硅氧烷、HMDSO、IPA、PGME、TMS、D6 硅氧烷、NMP、PGMEA
无机物(可选):NH3、HF、HCl、SO2、H2S(取决于下表中所选的分析仪)
采样管线1/2" 外径 × 3/8" 内径 UHP-PFA 管
端口数量24 或 32
尺寸

键盘托盘关闭

  • 79"(高)× 34"(宽)× 38"(深)
  • 2012 mm(高)× 864 mm(宽)× 971 mm(深)

键盘托盘打开

  • 79"(高)× 34"(宽)× 46"(深)
  • 2012 mm(高)× 864 mm(宽)× 1172 mm(深)
重量(不含分析仪)
  • 24 端口:447 lbs(203 kg)
  • 32 端口:482 lbs(218 kg)
  • 每台分析仪增加 75 lbs(34 kg)
电源要求220-240 VAC 单相,50/60 Hz,20 Amp
通信以太网 TCP/IP、RESTful API
保修期12 个月
认证CE、SEMI S2
制造国家美国
分析仪测量气体
VOC 分析仪VOC-10*
SI3401NH3, HF, HCl
SI2205HF
SI2108HCl
SI2104H2S
SI2306HF, NH3
SI2103NH3
SI5450SO2

 

*-VOC(乙酸、丙酮、D3 硅氧烷、HMDSO、IPA、PGME、TMS、D6 硅氧烷、NMP、PGMEA)
 

部件编号(可提供其他组合) 
SL100-24-EK00用于 NH3、HF、VOC 的 24 端口 AMC 系统
SL100-32-K000用于 VOC 的 32 端口 AMC 系统
SL100-32-AK00用于 NH3、HF、HCl、VOC 的 32 端口固定式 AMC 系统
组件/部件操作频率
零气过滤器更换每 6 个月
颗粒物过滤器 - 分析仪更换每 6 个月
泵 - 分析仪  预防性维护
重建(隔膜)
每 2 年
风扇组件 - 分析仪  预防性维护每 2 年
外置泵 - 分析仪   更换每 5 年