光刻工艺中的挥发性有机化合物(VOCs)和无机化合物会导致光罩缺陷、扫描仪光学元件雾化以及其他严重问题,不仅会损坏昂贵的光刻设备,还可能造成良率损失。
Picarro SLiM 100 光刻监测系统是一款具有 1 ppb 级检测能力的监测系统,将 Picarro 行业领先的腔衰荡光谱(CRDS)分析仪集成到高性能采样系统中,专为监测晶圆厂内的 VOCs 而设计。
SLiM 100 是一套实时测量系统,可在晶圆厂环境中全天候 24/7 连续运行。作为一套完全集成的化学计量系统,其性能稳定、操作简便,非常适合作为大批量生产环境中的工艺监测与控制系统。
Picarro SLiM 100 可测量 10 种对光刻工艺产生不利影响的有机化合物,浓度检测灵敏度低至 十亿分之一(1 ppb)。该系统还可配置用于测量无机分子的分析仪,实现 万亿分之一(ppt)级的浓度检测。
| 检测气体 | VOC:乙酸、丙酮、D3 硅氧烷、HMDSO、IPA、PGME、TMS、D6 硅氧烷、NMP、PGMEA 无机物(可选):NH3、HF、HCl、SO2、H2S(取决于下表中所选的分析仪) | |
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| 采样管线 | 1/2" 外径 × 3/8" 内径 UHP-PFA 管 | |
| 端口数量 | 24 或 32 | |
| 尺寸 | 键盘托盘关闭
| 键盘托盘打开
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| 重量(不含分析仪) |
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| 电源要求 | 220-240 VAC 单相,50/60 Hz,20 Amp | |
| 通信 | 以太网 TCP/IP、RESTful API | |
| 保修期 | 12 个月 | |
| 认证 | CE、SEMI S2 | |
| 制造国家 | 美国 | |
| 组件/部件 | 操作 | 频率 |
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| 零气过滤器 | 更换 | 每 6 个月 |
| 颗粒物过滤器 - 分析仪 | 更换 | 每 6 个月 |
| 泵 - 分析仪 | 预防性维护 重建(隔膜) | 每 2 年 |
| 风扇组件 - 分析仪 | 预防性维护 | 每 2 年 |
| 外置泵 - 分析仪 | 更换 | 每 5 年 |