SLiM 100

光刻工艺中的挥发性有机化合物（VOC）与无机化合物会引发掩模版缺陷、扫描镜头起雾等严重问题，导致昂贵的光刻设备受损，进而造成良率下降。

Picarro SLiM 100 光刻工艺监测系统是一套 1 ppb 级别的检测系统，将 Picarro 行业领先的腔衰荡光谱（CRDS）分析仪集成至高性能采样系统，专为晶圆厂内 VOC 监测而设计。

SLiM 100 实现 VOC 的实时测量，适用于晶圆厂环境中全天候 24/7 连续运行。该系统是一套高度集成的化学计量解决方案，具备结构稳固、操作简便的特点，非常适合用于大规模工艺监测与控制。

Picarro SLiM 100 可检测多达 10 种对光刻工艺有负面影响的有机化合物，灵敏度高达 1 ppb。同时，该系统还可扩展用于测量浓度低至 ppt 级别的无机分子。

检测气体	VOC：醋酸、丙酮、D3 硅氧烷、六甲基二硅氧烷、异丙醇、丙二醇单甲醚、三甲基硅烷、D6 硅氧烷、N-甲基吡咯烷酮、丙二醇单甲醚乙酸酯无机气体（可选）：氨气、氟化氢、氯化氢、二氧化硫、硫化氢（具体取决于下表中所选分析仪）
采样管路	外径 1/2 英寸 × 内径 3/8 英寸，超高纯 PFA 管
端口数量	24 或 32
设备尺寸	键盘托盘关闭 2012 x 864 x 971 毫米 79 x 34 x 38 英寸	键盘托盘打开 2012 x 864 x 1172 毫米 79 x 34 x 46 英寸
重量（不含分析仪）	24 端口系统：203 千克（447 磅） 32 端口系统：218 千克（482 磅）每增加一台分析仪，增加 34 千克（75 磅）
电源要求	220-240 VAC 单相，50/60 Hz，20 A
通信协议	以太网 TCP/IP、RESTful API
质保期	12 个月
认证	CE, SEMI S2
生产地	美国

*VOC：醋酸、丙酮、D3 硅氧烷、六甲基二硅氧烷、异丙醇、丙二醇单甲醚、三甲基硅烷、D6 硅氧烷、N-甲基吡咯烷酮、丙二醇单甲醚乙酸酯