在半导体晶圆厂中，工艺设备通常分布在大型洁净室区域及多个楼层。空气处理系统会循环利用洁净室内的大部分空气，这可能会导致空气分子中携带的分子污染物（AMCs）迅速扩散至其他区域，从而影响远离污染源的工艺步骤。这些 AMC 可引发多种问题，包括：

• 由各种酸碱性物质引起的可见/不可见缺陷，导致晶圆良率下降
• 雾化导致的设备损伤，尤其是光学玻璃与掩模版

        单次晶圆厂异常事件可能造成数百万美元的生产损失。因此，及时识别并应对 AMC 事件至关重要。

        Picarro 的 SAM 洁净室 AMC 监测解决方案，可帮助晶圆厂工程师与设施管理人员实时监测多种污染物，并在需要时立即采取纠正措施。

核心优势

• 实时监测多种酸性与碱性气体
• 高灵敏度检测，最低可至 ppt（万亿分之一）级别
• 支持多达 32 个采样点，覆盖晶圆厂 100 米范围内多个区域
• 快速采样选项可集成至清洁与吹扫系统，实现采样管线高效清洁
• 采样通道间无交叉污染

先进的采样系统设计

        传统采样系统通常通过线性歧管连接多个分析仪，这会限制气体流量并降低整体检测性能，最终使系统性能受限于表现最差的组件，这种延迟的 AMC 检测可能导致误报或漏报事件。

        Picarro 的 SAM 系统采用专利技术的非线性复用设计，可实现高气体流速、最小化端口交叉污染，并快速准确报告 AMC 浓度。系统可配置监测晶圆厂中最多 32 个不同位置。气体样品通过采样系统被引入 Picarro 的 CRDS 分析仪中，用户可通过图形界面实时查看每秒更新的数据和趋势分析。

该系统可与 Picarro 分析仪搭配使用，监测以下关键污染物：

• 氨气（NH₃）
• 氟化氢（HF）
• 氯化氢（HCl）
• 二氧化硫（SO₂）
• 硫化氢（H₂S）

快速解答工艺工程师最关心的问题：

• 是否发生过 AMC 浓度异常事件？
• 污染源位于晶圆厂的哪个区域？
• AMC 事件发生的时间是什么时候？
• 此类事件是否重复发生？
• 潜在污染源可能是什么？
• 是否需要更换化学过滤器？