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在半导体晶圆厂中,工艺设备通常分布在大型洁净室区域及多个楼层。空气处理系统会循环洁净室内的大部分空气,这可能导致空气分子污染物(AMC)迅速扩散至其他区域,从而影响远离污染源的工艺步骤。这些 AMC 可引发多种问题,包括:

由多种酸碱性物质引起的视觉与非视觉缺陷,导致晶圆良率下降

雾状物沉积导致的设备损伤,尤其是光学玻璃与掩模版

一次 Fab 异常可能造成数百万美元的产值损失。因此,及时识别并响应 AMC 事件至关重要。

Picarro 的 SAM 洁净室 AMC 监测解决方案,帮助晶圆厂工程师与设施管理人员实时监测多种污染物,并在需要时立即采取纠正措施。

方案优势

实时监测多种酸性与碱性气体

高灵敏度检测,最低可至 ppt(万亿分之一)级别

最多支持 32 个采样点,覆盖晶圆厂 100 米范围内多个区域

快速采样选项,可配合洁净和清洗系统迅速清洁采样管线

各采样通道间无交叉污染

先进的采样系统设计
传统采样系统通常通过线性管汇连接多个分析仪,气体流量受限,容易降低整体检测性能,使性能退化至最低标准,从而延迟对 AMC 的检测,甚至导致漏报或误报。

Picarro 的 SAM 系统采用专利申请中的非线性多路复用设计,可实现高气体流速、最小化交叉污染,并快速准确报告 AMC 浓度。系统可配置监测晶圆厂中最多 32 个不同位置。气体样品通过采样系统被引入 Picarro 的 CRDS 分析仪中,用户可通过图形界面实时查看每秒更新的数据和趋势分析。

该系统可与 Picarro 分析仪搭配使用,监测以下关键污染物:

氨气(NH₃)

氟化氢(HF)

氯化氢(HCl)

二氧化硫(SO₂)

硫化氢(H₂S)

快速解答工艺工程师最关心的问题:

是否发生了 AMC 异常?

污染源位于晶圆厂的哪个区域?

AMC 事件发生的时间是什么时候?

此类事件是否重复发生?

潜在污染源可能是什么?

是否需要更换化学过滤器?